含Si金刚石涂层的工艺研究

来源期刊：工程科学学报2007年第4期

论文作者：刘素田 刘伟 黑立富 唐伟忠 吕反修

文章页码：408 - 858

关键词：金刚石涂层;微波等离子体化学气相沉积;八甲基环四硅氧烷;硬质合金;附着力;

摘    要：利用微波等离子体辅助化学气相沉积的方法,以H2、CH4和D4(八甲基环四硅氧烷)为沉积先驱物,探索了一种在硬质合金基底上制备出含Si元素的金刚石涂层的新工艺.试图利用这种新的方法,进一步提高金刚石涂层对硬质合金基底的附着力.实验结果表明:当D4的流量相对CH4的流量较大时,得到球团状的胞状组织;只有当D4和CH4的流量相当的情况下,才能沉积出质量较好的金刚石涂层,同时又含有少量的Si使金刚石涂层的附着力较好.