基片下磁场对溅射薄膜宏观形貌的影响
来源期刊：材料导报2005年增刊第2期
论文作者：狄国庆 储开慧
关键词：磁控溅射; 膜厚; 梯度磁场;
摘 要：通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响.用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环.Al薄膜的中央圆斑处没有物质,为空白圆斑;而Cu薄膜的中央圆斑处有物质.对这一实验现象的产生机理,初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性.
狄国庆1，储开慧1
(1.苏州大学物理系,苏州,215006;
2.江苏省薄膜材料重点实验室,苏州,215006)
摘要:通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响.用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环.Al薄膜的中央圆斑处没有物质,为空白圆斑;而Cu薄膜的中央圆斑处有物质.对这一实验现象的产生机理,初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性.
关键词:磁控溅射; 膜厚; 梯度磁场;
【全文内容正在添加中】
