基片温度对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响
来源期刊：材料科学与工程学报2006年第3期
论文作者：陈敏 张庆瑜 黄英 黄永刚 李长敏
关键词：TiO2薄膜; 基片温度; 原子力显微镜; 表面形貌; 表面性能;
摘 要：利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响.结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜表面性能.最后,探讨了薄膜的生长机理.
陈敏1，张庆瑜2，黄英3，黄永刚3，李长敏1
(1.大连轻工业学院材料科学与工程系,辽宁,大连,116034;
2.大连理工大学三束材料改性国家重点实验室及物理系,辽宁,大连,116024;
3.中国建筑材料科学研究院特种玻璃纤维与光电功能材料研究所,北京,100024)
摘要:利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响.结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜表面性能.最后,探讨了薄膜的生长机理.
关键词:TiO2薄膜; 基片温度; 原子力显微镜; 表面形貌; 表面性能;
【全文内容正在添加中】
