TiN/AlN纳米多层膜的研究
来源期刊：材料工程1999年第11期
论文作者：李戈扬
关键词：纳米多层薄膜; 反应溅射; 调制结构; 显微硬度;
摘 要：采用反应溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD,HREM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明:TiN/AlN纳米多层膜有较好的调制结构.小调制周期时,AlN调制层以FCC结构在TiN调制层上外延生长.调制周期增大,AlN调制层中出现六方晶型.TiN/AlN的显微硬度随调制周期的减小单调上升,并在调制周期=2nm时达到最高值HK3293.硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN的形成所致.
李戈扬1
(1.上海交通大学)
摘要:采用反应溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD,HREM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明:TiN/AlN纳米多层膜有较好的调制结构.小调制周期时,AlN调制层以FCC结构在TiN调制层上外延生长.调制周期增大,AlN调制层中出现六方晶型.TiN/AlN的显微硬度随调制周期的减小单调上升,并在调制周期=2nm时达到最高值HK3293.硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN的形成所致.
关键词:纳米多层薄膜; 反应溅射; 调制结构; 显微硬度;
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