Al/U固相界面反应的原位高温X射线衍射研究

张延志^1,2，谢卫华¹，管卫军¹，陈林¹，汪小琳³

1. 中国工程物理研究院材料研究所2. 表面物理与化学重点实验室3. 中国工程物理研究院

摘 要：采用磁控溅射沉积技术在贫铀上镀铝膜,利用X射线衍射原位研究了铝镀层与贫铀基体的界面反应,分析了界面反应产物随温度和时间的变化规律。实验结果显示,镀膜过程Al/U界面没有化合物形成,而在较高温度下（≥335℃）两相界面会发生反应并形成金属间化合物UAl₃相,反应动力学符合形核-生长机制。形成的UAl₃相为疏松的层状结构,且相应的衍射峰强度随温度的升高而逐渐降低,直至消失,文中对该现象的原因进行了分析和讨论。

关键词：Al/U;界面反应;金属间化合物;X射线衍射;