磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能
来源期刊：功能材料2002年第5期
论文作者：戴嘉维 李戈扬 韩增虎 田家万 张慧娟
关键词：磁控溅射; CrNr薄膜; 氮分压; 力学性能;
摘 要：采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNr薄膜,并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成,采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量.研究了氮分压对薄膜成分、相组成和力学性能的影响.结果表明,随氮分压的升高,薄膜的沉积速率明显降低;薄膜中的氮含量增加,相应地,相组成从Cr+Cr2N过渡到单相Cr2N,再逐步经Cr2N+CrN过渡到单相CrN.并在Cr:N原子比为1:2和1:1时,薄膜的硬度出现极值(HV27.1GPa和HV26.8GPa),而薄膜的弹性模量则在Cr2N时呈现350GPa的最高值.
戴嘉维1，李戈扬2，韩增虎2，田家万2，张慧娟1
(1.上海交通大学,教育部高温材料与高温测试重点实验室,上海,200030;
2.上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030)
摘要:采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNr薄膜,并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成,采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量.研究了氮分压对薄膜成分、相组成和力学性能的影响.结果表明,随氮分压的升高,薄膜的沉积速率明显降低;薄膜中的氮含量增加,相应地,相组成从Cr+Cr2N过渡到单相Cr2N,再逐步经Cr2N+CrN过渡到单相CrN.并在Cr:N原子比为1:2和1:1时,薄膜的硬度出现极值(HV27.1GPa和HV26.8GPa),而薄膜的弹性模量则在Cr2N时呈现350GPa的最高值.
关键词:磁控溅射; CrNr薄膜; 氮分压; 力学性能;
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