磁控溅射法制备掺杂ZnO透明导电薄膜及其研究进展
来源期刊：材料导报2016年第S1期
论文作者：段光申 丁春华 姜宏 汪国庆 王红燕 那聪
文章页码：235 - 240
关键词：磁控溅射;ZnO透明导电薄膜;掺杂;
摘 要：磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并在此基础上对掺杂ZnO透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。
段光申，丁春华，姜宏，汪国庆，王红燕，那聪
海南大学材料与化工学院海南省特种玻璃重点实验室
摘 要：磁控溅射技术以其显著的优点已成为工业镀膜主要技术之一。充分发挥磁控溅射镀膜技术的现有优势,寻找新的增长点,成为近年来人们研究的热点。介绍了磁控溅射镀膜技术的原理、特点;总结了近来磁控溅射法制备掺杂ZnO薄膜,主要是Al掺杂、Si掺杂、Al-H共掺杂ZnO薄膜的研究进展。并在此基础上对掺杂ZnO透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。
关键词：磁控溅射;ZnO透明导电薄膜;掺杂;
