高纯钨溅射靶材制取工艺研究
来源期刊:中国钼业1997年第S1期
论文作者:郭让民
关键词:高纯钨;氨溶;中和结晶;超高真空高温脱气;
摘 要:微电子技术、光电技术对钨的纯度要求越来越高,熔炼钨纯度高但尺寸规格小且加工难度大。仅对采用粉末冶金法制取高纯钨材工艺试验过程中,重新氨溶,中和结晶的除杂效应进行了一些探讨,对经高真空高温处理后的钨方坯加工性能进行了加工试验,证明采用重新氨溶、中和结晶、超高真空高温脱气工艺可有效地去除杂质。高纯钨材质优良、性能稳定、放气量小。
郭让民
西北有色金属研究院
摘 要:微电子技术、光电技术对钨的纯度要求越来越高,熔炼钨纯度高但尺寸规格小且加工难度大。仅对采用粉末冶金法制取高纯钨材工艺试验过程中,重新氨溶,中和结晶的除杂效应进行了一些探讨,对经高真空高温处理后的钨方坯加工性能进行了加工试验,证明采用重新氨溶、中和结晶、超高真空高温脱气工艺可有效地去除杂质。高纯钨材质优良、性能稳定、放气量小。
关键词:高纯钨;氨溶;中和结晶;超高真空高温脱气;