紫外辐照对超低介电常数SiCOH薄膜组成与机械性能的影响

来源期刊：功能材料2011年第9期

论文作者：付爽 胡龙龙 孟庆伟 丁士进 范仲勇

文章页码：1657 - 3321

关键词：紫外辐照;多孔SiCOH薄膜;力学性能;低介电常数;

摘    要：采用紫外光辐照超低介电常数多孔SiCOH薄膜,研究不同照射时间对薄膜结构和性能的影响。采用动态纳米压入技术测量薄膜的力学性能,发现随照射时间增加,薄膜的模量（Er）和硬度（H）不断提高。当辐照时间增至6h时,薄膜力学强度分别达到Er约7.4GPa,H约1.0GPa。傅里叶变换红外光谱（FT-IR）、X射线光电子能谱（XPS）分析表明紫外辐照处理能够使薄膜样品中发生键的断裂与重新结合,从而改变了薄膜骨架的交联密度和刚性,进而提高力学性能。但介电性能并未受到明显影响,紫外辐照6h后,k值仅从2.0增至2.2。