采用磁控溅射法在Si(100)生长InN薄膜及其禁带宽度与拉曼的测试（英文）

来源期刊：稀有金属材料与工程2018年第1期

论文作者：王雪文 李婷婷 苏星星 吴朝科 翟春雪 胡峰 张志勇 赵武

文章页码：69 - 74

关键词：薄膜;晶体生长;磁控溅射;应力;禁带宽度;

摘    要：采用磁控溅射法在Si（100）衬底上生长出高取向性和多种微观形貌的InN薄膜,其中铟作为铟靶,氮气作为氮源。X射线衍射（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）表明所有衍射峰和标准的纤锌矿晶型的InN一致,并且在（101）,（100）和（002）方向具有极高的取向度。扫描电子显微镜（SEM）和能带衍射谱表明,在Si（100）衬底上可以生长出高质量的不同微观结构的InN晶体薄膜,尤其是溅射功率为60 W,溅射压强为0.4 Pa时表现为标准的正六边形结构。在室温下并且激发波长为λ=633的拉曼测试表明,可以通过E₂（High）峰计算出InN薄膜的应力,由于微观结构的不同导致应力值也不同,A1（LO）峰值比较低是由于迁移率较高导致。紫外吸收测试可以计算出的能带宽度分别为1.07,1.13,1.32 eV。XRD、SEM、XPS、霍尔效应、紫外吸收和拉曼光谱证明生长出的不同微观结构的薄膜可以适应各种需求的传感器和其他设备。