以PVA为溶剂ZnO薄膜的液相法制备及其机理研究
来源期刊：功能材料2010年第1期
论文作者：张磊 岳美琼 魏贤华
关键词：PVA; ZnO薄膜; 退火温度; 厚度; 生长机理; PVA; ZnO thin film; annealing temperature; coating thickness; growth mechanism;
摘 要：以聚乙稀醇(PVA)水溶液为溶剂,采用液相法制备了高度c轴取向的ZnO薄膜.采用XRD、Raman以及AFM分析了退火温度与涂层厚度对ZnO薄膜的影响.结果表明,随着退火温度的提高,ZnO薄膜的结晶度及其均方根粗糙度有所提高;同时厚度的增加使得ZnO薄膜的单一取向性减弱.其生长机理可表述为:在每一层涂层中一致或不一致的成核同时产生,通过层内与层间晶粒的聚合、联并,最后形成具有(002)取向的柱状与颗粒状并存的ZnO连续膜.
张磊1，岳美琼1，魏贤华1
(1.西南科技大学,材料科学与工程学院,四川,绵阳,621010)
摘要:以聚乙稀醇(PVA)水溶液为溶剂,采用液相法制备了高度c轴取向的ZnO薄膜.采用XRD、Raman以及AFM分析了退火温度与涂层厚度对ZnO薄膜的影响.结果表明,随着退火温度的提高,ZnO薄膜的结晶度及其均方根粗糙度有所提高;同时厚度的增加使得ZnO薄膜的单一取向性减弱.其生长机理可表述为:在每一层涂层中一致或不一致的成核同时产生,通过层内与层间晶粒的聚合、联并,最后形成具有(002)取向的柱状与颗粒状并存的ZnO连续膜.
关键词:PVA; ZnO薄膜; 退火温度; 厚度; 生长机理; PVA; ZnO thin film; annealing temperature; coating thickness; growth mechanism;
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