简介概要

一种无氰碱性光亮镀铜新工艺

来源期刊:材料保护2016年第3期

论文作者:宋文超 李玉梁 左正忠 熊剑锋

文章页码:55 - 126

关键词:镀铜;无氰碱性溶液;柠檬酸;丁二酰亚胺;葫芦脲;光亮剂;

摘    要:为了解决无氰碱性镀铜存在的镀液不稳定、抗杂质能力弱、与工件间结合力差以及镀液排放的废水中含有磷或有机膦等问题,推出了一种新的无氰碱性光亮镀铜新工艺:以柠檬酸(C6H8O7)为Cu2+的主配位剂、丁二酰亚胺(C4H5O2N)为Cu2+的辅助配位剂;使用了超分子化学物质葫芦脲(CB-n)作为防止铜在钢铁件上产生置换的添加剂以及含有聚氨脲、吲哚类、乙氧基醇类等物质的光亮剂。通过小槽试验、Hull Cell试验、阴极极化曲线、机械弯曲、锉刀等方法考察了电镀效果。结果表明:镀液的性能稳定,可得到阴极电流效率在70%85%、深镀能力为100%的光亮、均匀、结合力好的铜镀层;推荐的溶液组成和操作条件为2530 g/L Cu SO4·5H2O,7590 g/L C6H8O7,810 g/L C4H5O2N,25 g/L KNa C4H4O6·4H2O,2530 g/L H3BO3,90120 g/L KOH,0.010.05mg/L化学置换铜抑制剂CB-n,820 m L/L光亮剂,p H值9.011.0,Jc=0.23.0 A/dm2,温度4555℃,阳极为纯铜。

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一种无氰碱性光亮镀铜新工艺

宋文超1,李玉梁1,左正忠2,熊剑锋1

1. 武汉吉和昌化工科技有限公司2. 武汉大学化学与分子科学学院

摘 要:为了解决无氰碱性镀铜存在的镀液不稳定、抗杂质能力弱、与工件间结合力差以及镀液排放的废水中含有磷或有机膦等问题,推出了一种新的无氰碱性光亮镀铜新工艺:以柠檬酸(C6H8O7)为Cu2+的主配位剂、丁二酰亚胺(C4H5O2N)为Cu2+的辅助配位剂;使用了超分子化学物质葫芦脲(CB-n)作为防止铜在钢铁件上产生置换的添加剂以及含有聚氨脲、吲哚类、乙氧基醇类等物质的光亮剂。通过小槽试验、Hull Cell试验、阴极极化曲线、机械弯曲、锉刀等方法考察了电镀效果。结果表明:镀液的性能稳定,可得到阴极电流效率在70%85%、深镀能力为100%的光亮、均匀、结合力好的铜镀层;推荐的溶液组成和操作条件为2530 g/L Cu SO4·5H2O,7590 g/L C6H8O7,810 g/L C4H5O2N,25 g/L KNa C4H4O6·4H2O,2530 g/L H3BO3,90120 g/L KOH,0.010.05mg/L化学置换铜抑制剂CB-n,820 m L/L光亮剂,p H值9.011.0,Jc=0.23.0 A/dm2,温度4555℃,阳极为纯铜。

关键词:镀铜;无氰碱性溶液;柠檬酸;丁二酰亚胺;葫芦脲;光亮剂;

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