往复式磁流变抛光装置的设计与仿真研究

来源期刊：机械设计与制造2019年第2期

论文作者：宋万里 马晋涛 胡志超 修世超

文章页码：104 - 106

关键词：磁流变;抛光;有限元;磁场;温度场;

摘    要：磁流变抛光是一种新型抛光方式,近年来我国研究人员已经相继研究出了几种抛光装置。介绍了磁流变抛光的原理之后,介绍了一种新的磁流变抛光装置;并对该装置中结构进行了分析,详细地阐述了抛光装置所处的机床结构和内部的零部件名称。为了确定在抛光过程中磁场对抛光的影响情况,用ANSYS有限元软件对磁场发生装置中的磁场和温度场进行了仿真研究;将分析结果与实际的磁场和温度场的测量结果进行对比,可以观察到两者的结果十分接近;从而证明ANSYS软件分析的结果真实有效,这也为以后的磁场优化打下了良好的基础。