磁流变抛光液的研制

程灏波¹，牛海燕¹，张忠玉¹，潘守甫²，郑立功¹，张学军¹，张峰²

(1.长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究室,吉林,长春,130022;
2.吉林大学,原子分子物理研究所,吉林,长春,130023)

摘要:磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术.首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理.然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究.在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光.最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性.实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.

关键词:磁流变抛光; 磁流变抛光液; 剪切应力; 抛光区; 材料去除率;

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