退火时间对磁控溅射Al/PbTe薄膜结构及性能的影响

来源期刊：理化检验物理分册2011年第12期

论文作者：卢慧粉 曹文田 王书运 任伟 庄浩

文章页码：760 - 1528

关键词：Al/PbTe薄膜;RF磁控溅射;退火时间;透射率;电阻率;

摘    要：采用RF磁控溅射法制备了Al/PbTe薄膜,并在真空电阻炉中对薄膜进行退火处理,研究了退火时间对Al/PbTe薄膜的表面形貌、物相组成、透射率和电阻率的影响。结果表明:所制备的Al/PbTe薄膜具有明显的〈100〉方向择优取向;随着退火时间的延长,薄膜的PbTe(200)衍射峰强度明显下降,并且出现了PbTe(111)衍射峰;退火后Al/PbTe薄膜表面出现了花状聚集,且随着退火时间的延长,花状聚集越来越密集和均匀;退火后Al/PbTe薄膜的吸收带向短波方向发生了少许偏移,随着退火时间的延长薄膜的透射率和电阻率都呈现先减小后增大的趋势。