RF磁控溅射法制备ZnO薄膜的XRD分析
来源期刊：理化检验物理分册2006年第1期
论文作者：吕珺 郑治祥 汪冬梅 吴玉程 陈长奇
关键词：ZnO薄膜; RF磁控溅射; XRD; 退火处理; 结晶性能;
摘 要：采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350～600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理.利用X射线衍射分析了溅射参数如溅射功率、溅射氧分压、衬底温度以及退火处理对ZnO薄膜结晶性能的影响.结果表明,合适的衬底温度和退火处理能够提高ZnO薄膜的结晶质量.
吕珺1，郑治祥1，汪冬梅1，吴玉程1，陈长奇2
(1.合肥工业大学材料科学与工程学院,合肥,230009;
2.合肥工业大学机械学院真空实验室,合肥,230009)
摘要:采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350～600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理.利用X射线衍射分析了溅射参数如溅射功率、溅射氧分压、衬底温度以及退火处理对ZnO薄膜结晶性能的影响.结果表明,合适的衬底温度和退火处理能够提高ZnO薄膜的结晶质量.
关键词:ZnO薄膜; RF磁控溅射; XRD; 退火处理; 结晶性能;
【全文内容正在添加中】
