电沉积Ni-S合金硫含量的影响因素

来源期刊：粉末冶金材料科学与工程2005年第1期

论文作者：刘芳 何捍卫 周科朝 袁铁锤 刘红江 李军

文章页码：60 - 64

关键词：Ni-S合金;硫含量;析氢电位;

摘    要：用电沉积法制备了Ni S合金电极, 研究了电流密度、镀液温度、镀液pH值、电沉积时间、硫脲浓度对镀层硫含量的影响; 测试了不同硫含量的极化曲线; 并用XRD、SEM对镀层进行了表征。结果表明硫含量随着电流密度、pH值的增高而降低, 随着镀液温度的升高、电沉积时间增长而增高; 在硫脲浓度为100 g/L时硫含量最高。硫含量在12.5%~16.5%时, Ni S合金电极析氢电位较低。所获得的镀层有Ni3S2 活性成分, 并有部分非晶态。镀层经电解后, 变得更细, 更均匀。