磁控溅射硅钼薄膜的抗氧化性能研究
来源期刊：功能材料2012年第15期
论文作者：邵红红 徐涛 王晓静 邓进俊
文章页码：2095 - 2097
关键词：磁控溅射;硅钼薄膜;抗氧化性;
摘 要：用射频磁控溅射法在单晶Si基体上制备了硅钼薄膜,对薄膜进行真空退火处理以及高温氧化实验,借助SEM和X射线衍射仪(XRD)等仪器对退火前后的薄膜以及高温氧化后的薄膜进行了分析。结果表明沉积态的硅钼薄膜为非晶态,高温真空退火使薄膜由非晶态转变为晶态,致密的复合氧化物是硅钼薄膜具有良好的抗氧化性能的主要原因。
邵红红，徐涛，王晓静，邓进俊
江苏大学材料科学与工程学院
摘 要：用射频磁控溅射法在单晶Si基体上制备了硅钼薄膜,对薄膜进行真空退火处理以及高温氧化实验,借助SEM和X射线衍射仪(XRD)等仪器对退火前后的薄膜以及高温氧化后的薄膜进行了分析。结果表明沉积态的硅钼薄膜为非晶态,高温真空退火使薄膜由非晶态转变为晶态,致密的复合氧化物是硅钼薄膜具有良好的抗氧化性能的主要原因。
关键词：磁控溅射;硅钼薄膜;抗氧化性;
