配位剂对电沉积Fe-Ni-Cr合金电化学行为的影响
来源期刊:功能材料2007年第6期
论文作者:陈洪 侯清麟 杜晶晶 许利剑 汤建新
关键词:Fe-Ni-Cr合金; 电化学行为; 电沉积;
摘 要:利用线性电势扫描法和循环伏安法分别讨论了配位剂对Fe2+ 、Ni2+ 、Cr3+单独电沉积和Fe-Ni-Cr合金共沉积电化学行为的影响,并采用SEM和XRD技术对合金镀层表面形貌和结构进行了表征.实验结果表明,有配位剂存在时,Fe2+单独沉积电势向正方向移动,Ni2+单独沉积电势向负方向移动,且两者析出电势均在-0.85V附近;在简单铬离子水溶液中,不能沉积出金属铬,有配位剂存在时,Cr3+溶液可以得到金属铬;在合金镀液中,没有配位剂存在时,不能得到Fe-Ni-Cr合金镀层,有配位剂存在时,可以得到晶粒平均尺寸为87nm的光亮致密的Fe-Ni-Cr合金镀层,说明配位剂能与Cr3+在电极表面形成电活性配合物,使Cr3+容易在电极上放电,另一方面说明Ni、Fe的析出对Cr的沉积有诱导的作用,使铬在合金镀液中沉积电势正移,实现Fe-Ni-Cr合金共沉积.
陈洪1,侯清麟2,杜晶晶2,许利剑2,汤建新2
(1.中南林业科技大学,中南林学院林业部经济林育种与栽培重点实验室,湖南,长沙,410004;
2.湖南工业大学,绿色包装与生物纳米技术应用实验室,湖南,株洲,412008)
摘要:利用线性电势扫描法和循环伏安法分别讨论了配位剂对Fe2+ 、Ni2+ 、Cr3+单独电沉积和Fe-Ni-Cr合金共沉积电化学行为的影响,并采用SEM和XRD技术对合金镀层表面形貌和结构进行了表征.实验结果表明,有配位剂存在时,Fe2+单独沉积电势向正方向移动,Ni2+单独沉积电势向负方向移动,且两者析出电势均在-0.85V附近;在简单铬离子水溶液中,不能沉积出金属铬,有配位剂存在时,Cr3+溶液可以得到金属铬;在合金镀液中,没有配位剂存在时,不能得到Fe-Ni-Cr合金镀层,有配位剂存在时,可以得到晶粒平均尺寸为87nm的光亮致密的Fe-Ni-Cr合金镀层,说明配位剂能与Cr3+在电极表面形成电活性配合物,使Cr3+容易在电极上放电,另一方面说明Ni、Fe的析出对Cr的沉积有诱导的作用,使铬在合金镀液中沉积电势正移,实现Fe-Ni-Cr合金共沉积.
关键词:Fe-Ni-Cr合金; 电化学行为; 电沉积;
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