简介概要

射频磁控溅射法制备氧化镱薄膜

来源期刊：稀有金属材料与工程2007年增刊第3期

论文作者：刘文婷沈雅明许宁刘正堂

关键词：射频磁控溅射; 氧化镱; 薄膜;

摘要：利用射频磁控溅射法,以高纯氧化镱(Yb2O3)为靶材,成功地制备出了Yb2O3薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分、结构和光学性能进行了研究.结果表明,制备的薄膜中Yb和O元素结合形成了Yb2O3化合物;薄膜为具有立方结构的多晶体;在波长0.8 μm以上薄膜的折射率约为1.66,吸收很小.

详情信息展示

刘文婷¹，沈雅明¹，许宁¹，刘正堂¹

(1.西北工业大学材料科学与工程学院,陕西,西安,710072)

摘要:利用射频磁控溅射法,以高纯氧化镱(Yb2O3)为靶材,成功地制备出了Yb2O3薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分、结构和光学性能进行了研究.结果表明,制备的薄膜中Yb和O元素结合形成了Yb2O3化合物;薄膜为具有立方结构的多晶体;在波长0.8 μm以上薄膜的折射率约为1.66,吸收很小.

关键词:射频磁控溅射; 氧化镱; 薄膜;

【全文内容正在添加中】