退火处理对掺锑Zn-Sn-O薄膜的特性的影响
来源期刊：功能材料2006年第2期
论文作者：王雨生 盖凌云 徐进栋 姜永超 马瑾 黄树来
关键词：磁控射频溅射; 透明导电膜; Zn-Sn-O:Sb;
摘 要：首次在低温下采用磁控射频溅射技术在玻璃衬底上制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明导电膜.研究了在通氧气氛制备薄膜的特性以及退火处理对制备薄膜结构和光电性能的影响.经真空退火后,氩氧混合气体溅射制备的Zn-Sn-O:Sb透明导电膜的最小电阻率为4×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为2.1×1019cm-3,8cm2·V-1·s-1.薄膜的可见光平均透过率达到了92.4%.薄膜具有较高的热稳定性和化学稳定性,对玻璃衬底有良好的附着性.
王雨生1，盖凌云2，徐进栋1，姜永超1，马瑾3，黄树来1
(1.莱阳农学院,理学院,山东,莱阳,265200;
2.莱阳农学院,教育技术中心,山东,莱阳,265200;
3.山东大学,物理与微电子学院,山东,济南,250100)
摘要:首次在低温下采用磁控射频溅射技术在玻璃衬底上制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明导电膜.研究了在通氧气氛制备薄膜的特性以及退火处理对制备薄膜结构和光电性能的影响.经真空退火后,氩氧混合气体溅射制备的Zn-Sn-O:Sb透明导电膜的最小电阻率为4×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为2.1×1019cm-3,8cm2·V-1·s-1.薄膜的可见光平均透过率达到了92.4%.薄膜具有较高的热稳定性和化学稳定性,对玻璃衬底有良好的附着性.
关键词:磁控射频溅射; 透明导电膜; Zn-Sn-O:Sb;
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