钕铁硼表面真空蒸镀Al膜的制备及其性能

刘家琴¹，曹玉杰¹，张鹏杰^2,3，张浩¹，吴玉程²

1. 合肥工业大学工业与装备技术研究院2. 合肥工业大学材料科学与工程学院

摘 要：为了提高烧结NdFeB磁体的耐腐蚀性能,采用真空蒸镀的方法在烧结NdFeB磁体表面沉积Al薄膜,并对工艺过程中的工艺参数进行优化。结果表明:真空室温度对Al薄膜的结构及耐腐蚀性能基本没有影响,但温度过高会导致Al薄膜表面岛状结构的增大,造成Al薄膜的厚度一致性难以控制;随着蒸发源温度的增加,Al薄膜的沉积速率逐渐增加,但是随着蒸镀时间的延长,Al薄膜的沉积效率逐渐降低,这是由于Al蒸发原子在基片上冷凝沉积的物理驱动力下降导致的。采用最佳工艺参数制备的厚度为8μm的Al薄膜,耐中性盐雾试验时间可达60 h,且Al镀层的涂覆对NdFeB磁体的磁性能基本没有影响。

关键词：烧结钕铁硼;永磁材料;真空蒸镀;Al薄膜;耐腐蚀性能;