Ru非磁性中间层的制备及其结构研究

来源期刊：贵金属2012年第4期

论文作者：张俊敏 管伟明 李艳琼 毕珺 谭志龙 王传军 张昆华

文章页码：38 - 42

关键词：金属材料;非磁性中间层;Ru薄膜;射频磁控溅射;

摘    要：以不同晶面的Si片作为基底,室温下,采用射频磁控溅射的方法制备得到Ru非磁性薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）分析薄膜的结构和形貌。研究不同基底材料对Ru中间层结构和形貌的影响。结果表明:以单晶Si（100）、Si（110）、Si（111）片作为基底制备的Ru薄膜均呈（002）晶面的择优取向生长;Ru-Si（100）、Ru-Si（110）和Ru-Si（111）薄膜表面均由细小的圆形晶粒组成。Si（111）面上生长的Ru薄膜表面颗粒尺寸最小,表面粗糙度最大,有利于磁记录层磁学性能的提高。