粉末靶射频磁控溅射非晶Al₂O₃薄膜的制备与性能研究

吴法宇¹，李建伟¹，齐羿²，丁梧桐³，樊子铭¹，周艳文¹

1. 辽宁科技大学材料与冶金学院2. 中国重汽(香港)有限公司济南铸锻中心3. 沈阳工业大学材料科学与工程学院

摘 要：采用粉末靶射频磁控溅射方法制备非晶Al₂O₃薄膜,分析了溅射工艺参数对Al₂O₃薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理,并探究其抗菌特性.研究结果表明:增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al₂O₃薄膜颗粒度与粗糙度,同时也降低薄膜的沉积速率;并且,氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al₂O₃薄膜禁带宽度变宽（最大值可达4.21 e V）、透光率增大（超过90%）;光照条件下非晶Al₂O₃薄膜24 h抗菌率最高可达98.6%,体现出了较好的光催化抗菌性.

关键词：非晶Al2O3薄膜;射频磁控溅射;光学性能;抗菌特性;