激光裂解含二茂铁的聚硅氧烷制备SiOC(Fe)陶瓷涂层研究

来源期刊：材料保护2017年第12期

论文作者：黄克宁 乔玉林 薛胤昌 蔡志海

文章页码：5 - 39

关键词：激光裂解;二茂铁;聚硅氧烷;SiOC(Fe)陶瓷涂层;裂解机理;

摘    要：激光裂解聚合物先驱体在金属表面制备性能优异的陶瓷涂层,解决了金属本身存在的耐磨防腐蚀性能不足的问题,已成为一种行之有效的方法。采用激光裂解含二茂铁的聚硅氧烷制备了SiOC（Fe）陶瓷涂层,采用电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）,分析了激光裂解含二茂铁的聚硅氧烷生成物的组成与结构,并初步研究了其裂解机理。结果表明:在激光作用下,含二茂铁的聚硅氧烷在激光裂解过程中会发生非平衡态的自由基化学反应,生成的陶瓷涂层主要由晶态的SiC、Fe₃C,非晶态的SiO₂、Fe₂O₃、Fe₃O₄以及C单质、C₆H₁₈OSi₂等物质组成,由二茂铁激光裂解生成的Fe₂O₃、Fe₃O₄、Fe₃C相对制备的陶瓷涂层孔隙具有填补作用。二茂铁质量分数越大,陶瓷涂层表面越平整致密,孔隙越少。