硅集成电路用SiGe/Si异质结构材料及其制备技术
来源期刊：稀有金属2003年第6期
论文作者：王凤娥
关键词：SiGe; 异质结构; 绝缘体上硅锗;
摘 要：SiGe技术是微电子领域的前沿技术, 在硅基集成电路方面有重要应用. 介绍了SiGe/Si和SiGe-OI两种SiGeSi异质结构材料, 综述了这两种材料的制备技术和研究进展, 讨论了SiGe异质结构材料应用于纳米集成电路等的应用前景.
王凤娥1
(1.北京有色金属研究总院科技信息所,北京,100088)
摘要:SiGe技术是微电子领域的前沿技术, 在硅基集成电路方面有重要应用. 介绍了SiGe/Si和SiGe-OI两种SiGeSi异质结构材料, 综述了这两种材料的制备技术和研究进展, 讨论了SiGe异质结构材料应用于纳米集成电路等的应用前景.
关键词:SiGe; 异质结构; 绝缘体上硅锗;
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