Ni包覆Al2O3粉体的RCVD法制备及机理研究
来源期刊：材料科学与工艺2017年第4期
论文作者：葛梦妮 李亚辉 周华思 郭珈旭 张建峰
文章页码：78 - 83
关键词：Al2O3粉体;镍纳米粒子;粉体包覆;旋转化学气相沉积法(RCVD);包覆机理;包覆层;
摘 要：金属Ni包覆于陶瓷粉体的表面,可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质.本文采用旋转化学气相沉积法（RCVD）,利用二茂镍（NiCp2）前驱体的热分解,借助载体氢气对反应的催化促进作用,在Al2O3粉体表面包覆了均匀分散的Ni纳米粒子,并研究了包覆温度和原料供应速率对反应产物物相、粒度和形貌的影响规律.研究表明,在包覆温度为450550℃、前驱体二茂镍（NiCp2）供给速率为（0.62.0）×10-6kg/s条件下,通过对反应过程中镍纳米粒子的包覆温度和前驱体二茂镍（NiCp2）供给速率调控可对镍纳米粒子的粒径大小和包覆层数进行调控.结合实验结果,分析了载体氢气对二茂镍反应的催化促进作用,阐述了旋转化学气相沉积条件下Ni纳米粒子在Al2O3粉体表面均匀包覆的过程与机制.通过调控包覆温度和原料供应速率,可以影响前驱体二茂镍的分解行为,从而调控镍纳米粒子在Al2O3粉体表面的包覆状态.
葛梦妮，李亚辉，周华思，郭珈旭，张建峰
河海大学力学与材料学院
摘 要：金属Ni包覆于陶瓷粉体的表面,可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质.本文采用旋转化学气相沉积法（RCVD）,利用二茂镍（NiCp2）前驱体的热分解,借助载体氢气对反应的催化促进作用,在Al2O3粉体表面包覆了均匀分散的Ni纳米粒子,并研究了包覆温度和原料供应速率对反应产物物相、粒度和形貌的影响规律.研究表明,在包覆温度为450550℃、前驱体二茂镍（NiCp2）供给速率为（0.62.0）×10-6kg/s条件下,通过对反应过程中镍纳米粒子的包覆温度和前驱体二茂镍（NiCp2）供给速率调控可对镍纳米粒子的粒径大小和包覆层数进行调控.结合实验结果,分析了载体氢气对二茂镍反应的催化促进作用,阐述了旋转化学气相沉积条件下Ni纳米粒子在Al2O3粉体表面均匀包覆的过程与机制.通过调控包覆温度和原料供应速率,可以影响前驱体二茂镍的分解行为,从而调控镍纳米粒子在Al2O3粉体表面的包覆状态.
关键词：Al2O3粉体;镍纳米粒子;粉体包覆;旋转化学气相沉积法(RCVD);包覆机理;包覆层;
