聚对氨基苯磺酸-MoS₂纳米片复合膜修饰玻碳电极溶出伏安法测定Pb²⁺

来源期刊：分析试验室2020年第9期

论文作者：李鑫 邹娜 王朝霞 上官伟 马忠慧 王学亮

文章页码：1075 - 1079

关键词：硝酸铅;对氨基苯磺酸;MoS₂纳米片;方波溶出伏安法;

摘    要：通过滴涂及电聚合的方式在玻碳电极（GCE）表面制备了二硫化钼（MoS₂）-聚对氨基苯磺酸（pABSA）复合膜修饰电极,并通过循环伏安法（CV）和电化学交流阻抗法（EIS）对修饰电极进行了表征。该复合膜对Pb²⁺具有良好的催化活性,利用方波溶出伏安法（SWSV）对Pb²⁺在复合膜上的电化学行为进行了研究。在最优条件下,Pb²⁺的溶出峰电流值与其浓度在0.5 nmol/L～2.5μmol/L的范围内呈良好线性关系,R²=0.9983,检出限为0.1 nmol/L。同时探究了电解质种类、pH、富集时间、富集电位等因素对Pb（NO₃）₂溶出伏安响应信号的影响。对实际样品进行检测,加标回收率98.6%～101.2%。