Si在纯Fe及低硅钢中扩散行为
来源期刊：工程科学学报2012年第10期
论文作者：温钰 田广科 毕晓昉
文章页码：1138 - 1144
关键词：铁合金;硅合金;磁控溅射;扩散;计算机模拟;
摘 要：采用磁控溅射方法,分别在纯Fe以及低硅钢基片上沉积富Si膜,并对其进行真空扩散热处理.通过能谱分析及X射线衍射研究了Si在纯Fe与低硅钢基体中的扩散特征,运用DICTRA软件建立了扩散模型.研究发现Si在纯Fe基体中扩散时发生γ-Fe（Si）→α-Fe（Si）相转变,扩散速率受控于相界面的迁移.当沿截面Si含量梯度不足以驱动相界面正向迁移时,延长扩散时间会发生相界面回迁现象,最终趋于单一相内均匀化扩散过程.Si在低硅钢基体中的扩散符合Fick扩散第二定律.
温钰1，田广科2，毕晓昉1
1. 北京航空航天大学材料科学与工程学院2. 兰州交通大学国家绿色镀膜工程中心
摘 要：采用磁控溅射方法,分别在纯Fe以及低硅钢基片上沉积富Si膜,并对其进行真空扩散热处理.通过能谱分析及X射线衍射研究了Si在纯Fe与低硅钢基体中的扩散特征,运用DICTRA软件建立了扩散模型.研究发现Si在纯Fe基体中扩散时发生γ-Fe（Si）→α-Fe（Si）相转变,扩散速率受控于相界面的迁移.当沿截面Si含量梯度不足以驱动相界面正向迁移时,延长扩散时间会发生相界面回迁现象,最终趋于单一相内均匀化扩散过程.Si在低硅钢基体中的扩散符合Fick扩散第二定律.
关键词：铁合金;硅合金;磁控溅射;扩散;计算机模拟;
