钛酸铋基铁电薄膜研究进展
来源期刊：功能材料2006年第3期
论文作者：杨卫明 李智华 杨斌 郑朝丹 王耘波 张端明 高俊雄 郭冬云 王龙海 吴云翼 魏念 于军
关键词：钛酸铋; 铁电薄膜; 制备工艺; 掺杂改性; 疲劳;
摘 要：钛酸铋基铁电薄膜具有优良的铁电、介电性能,在非挥发性存储器件方面有很好的应用前景.本文分别从制备工艺、掺杂改性、疲劳特性的研究等方面综述了最新的研究进展,并对当前研究中存在的问题进行了讨论.
杨卫明1，李智华2，杨斌2，郑朝丹2，王耘波1，张端明2，高俊雄1，郭冬云1，王龙海1，吴云翼2，魏念2，于军1
(1.华中科技大学,电子科学和技术系,湖北,武汉,430074;
2.华中科技大学,物理系,湖北,武汉,430074)
摘要:钛酸铋基铁电薄膜具有优良的铁电、介电性能,在非挥发性存储器件方面有很好的应用前景.本文分别从制备工艺、掺杂改性、疲劳特性的研究等方面综述了最新的研究进展,并对当前研究中存在的问题进行了讨论.
关键词:钛酸铋; 铁电薄膜; 制备工艺; 掺杂改性; 疲劳;
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