溅射功率对CoFeB薄膜磁与结构特性的影响

来源期刊：磁性材料及器件2016年第5期

论文作者：黄亚 徐展 邱于珍 陈传文 庄凤江 苏少坚 王可

文章页码：8 - 42

关键词：CoFeB薄膜;溅射功率;退火处理;磁性能;

摘    要：以不同功率溅射制备了CoFeB合金薄膜样品并在高真空下退火处理。发现低功率生长的薄膜始终具有磁各向同性,而高功率生长的薄膜随着退火温度的升高,由起始的单轴磁各向异性逐渐向磁各向同性转变。X射线衍射分析也印证了CoFeB薄膜随退火温度的升高,薄膜由非晶态逐渐向结晶态转变。当退火温度高于400℃时,低功率生长的CoFeB样品的矫顽力大于高功率生长薄膜的矫顽力。同时发现低功率生长的CoFeB的(110)峰值高于高功率生长的样品峰值,表明低功率生长的薄膜晶粒尺寸更大。