AlSb多晶薄膜的制备及其潮解性研究
来源期刊：功能材料2010年第1期
论文作者：冯良桓 夏庚培 郑家贵 武莉莉 张静全 贺剑雄 黎兵 李卫
关键词：AlSb; 薄膜; 退火; 磁控溅射法; AlSb; film; annealing; magnetron sputtering;
摘 要：采用磁控溅射法制备了Al-Sb多层薄膜,通过调节Al和Sb亚层厚度及层数改变原子配比,并在真空中退火.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、金相显微镜、Hall测试及俄歇电子能谱仪研究了薄膜的结构和性能.结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,经500℃退火后化合为P型AlSb多晶薄膜,且沿(111)择优取向,退火温度超过600℃薄膜产生局部损伤.通过台阶仪显微摄像探头及俄歇深度剖图观察和分析了薄膜的潮解现象,提出了几种保护措施.
冯良桓1，夏庚培1，郑家贵1，武莉莉1，张静全1，贺剑雄1，黎兵1，李卫1
(1.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064;
2.国家光伏产品质量监督检验中心,四川,成都,610200)
摘要:采用磁控溅射法制备了Al-Sb多层薄膜,通过调节Al和Sb亚层厚度及层数改变原子配比,并在真空中退火.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、金相显微镜、Hall测试及俄歇电子能谱仪研究了薄膜的结构和性能.结果表明,刚沉积的薄膜只有Sb的结晶相,经500℃退火后化合为P型AlSb多晶薄膜,且沿(111)择优取向,退火温度超过600℃薄膜产生局部损伤.通过台阶仪显微摄像探头及俄歇深度剖图观察和分析了薄膜的潮解现象,提出了几种保护措施.
关键词:AlSb; 薄膜; 退火; 磁控溅射法; AlSb; film; annealing; magnetron sputtering;
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