简介概要

交流磁控溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究

来源期刊：材料科学与工艺2005年第6期

论文作者：付恩刚李士元张弓庄大明

关键词：磁控溅射; ZAO薄膜; 工艺参数; 电阻率;

摘要：对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数,为工业化生产提供了实验依据.

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付恩刚¹，李士元³，张弓¹，庄大明¹

(1.清华大学,机械工程系,北京,100084;
2.Dept.of Physics,The University of Hong Kong,Hong Kong;
3.中兴通讯股份有限公司,深圳,518000)

摘要:对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数,为工业化生产提供了实验依据.

关键词:磁控溅射; ZAO薄膜; 工艺参数; 电阻率;

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