氧化钒薄膜作为锂离子微电池阴极膜的磁控溅射技术的制备
来源期刊：功能材料2005年第8期
论文作者：李志栓 李静 吴孙桃
关键词：α-V2O5; 阴极膜; 射频磁控溅射; 锂离子电池; α-V2O5; cathode film; RF sputtering; lithium micro-battery;
摘 要：研究了用磁控溅射系统来制备氧化钒薄膜,通过优化工艺条件制备出可用作锂离子微电池阴极膜的非晶态五氧化二钒(α-V2O5)薄膜.并使用X射线衍射(XRD)与X射线光电子谱(XPS)来表征薄膜的晶向及化学组分.结果表明通过调节氧气以及氩气的流量、基片的温度和溅射功率,可以制备出高纯度的α-V2O5薄膜.而且,半电池体系V2O5/LiPF6/Li被构造用于表征在锂电池中作为阴极膜的五氧化二钒(α-V2O5)的电学性质.在此电池系统经过10个循环放电后,薄膜放电电容趋于稳定值.
李志栓1，李静2，吴孙桃2
(1.厦门大学,物理系,福建,厦门,361005;
2.厦门大学,萨本栋微机电研究中心,福建,厦门,361005)
摘要:研究了用磁控溅射系统来制备氧化钒薄膜,通过优化工艺条件制备出可用作锂离子微电池阴极膜的非晶态五氧化二钒(α-V2O5)薄膜.并使用X射线衍射(XRD)与X射线光电子谱(XPS)来表征薄膜的晶向及化学组分.结果表明通过调节氧气以及氩气的流量、基片的温度和溅射功率,可以制备出高纯度的α-V2O5薄膜.而且,半电池体系V2O5/LiPF6/Li被构造用于表征在锂电池中作为阴极膜的五氧化二钒(α-V2O5)的电学性质.在此电池系统经过10个循环放电后,薄膜放电电容趋于稳定值.
关键词:α-V2O5; 阴极膜; 射频磁控溅射; 锂离子电池; α-V2O5; cathode film; RF sputtering; lithium micro-battery;
【全文内容正在添加中】
