射频磁控溅射制备硼碳氮薄膜
来源期刊：功能材料2007年第6期
论文作者：王兴权 王玉新 赵永年 冯克成 张先徽
关键词：射频磁控溅射; 硼碳氮薄膜; 红外吸收光谱;
摘 要：采用射频磁控溅射技术,用六角氮化硼和石墨为溅射靶,以氩气(Ar)和氮气(N2)为工作气体,在Si (100)衬底上制备出硼碳氮薄膜.通过X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对样品结构、组分进行了分析.结果表明,样品的组成原子之间实现了原子级化合,且薄膜为乱层石墨结构.样品中B、C、N的原子比近似为1:1:1.
王兴权1，王玉新1，赵永年2，冯克成1，张先徽1
(1.长春理工大学,理学院,吉林,长春,130022;
2.吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012)
摘要:采用射频磁控溅射技术,用六角氮化硼和石墨为溅射靶,以氩气(Ar)和氮气(N2)为工作气体,在Si (100)衬底上制备出硼碳氮薄膜.通过X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)等分析手段对样品结构、组分进行了分析.结果表明,样品的组成原子之间实现了原子级化合,且薄膜为乱层石墨结构.样品中B、C、N的原子比近似为1:1:1.
关键词:射频磁控溅射; 硼碳氮薄膜; 红外吸收光谱;
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