物理气相沉积法制备TiN薄膜的性能及应用研究
来源期刊：世界有色金属2016年第9期
论文作者：王尧
文章页码：114 - 116
关键词：TiN薄膜;物理气相沉积法;工艺参数;性能;
摘 要：本文主要介绍了物理气相沉积法(磁控溅射法和多弧离子镀法)制备Ti N薄膜的工艺,分析了不同工艺参数对性能的影响,列举了在切削工具、机械加工、航空、医学以及微电子领域的应用,最后对Ti N薄膜的发展趋势进行了展望。
王尧
装甲兵工程学院装备维修与再制造工程系
摘 要：本文主要介绍了物理气相沉积法(磁控溅射法和多弧离子镀法)制备Ti N薄膜的工艺,分析了不同工艺参数对性能的影响,列举了在切削工具、机械加工、航空、医学以及微电子领域的应用,最后对Ti N薄膜的发展趋势进行了展望。
关键词：TiN薄膜;物理气相沉积法;工艺参数;性能;
