石墨烯∶聚合物复合薄膜的图形化制备与非易失性存储性能研究

来源期刊：功能材料2015年第7期

论文作者：吴朝兴 李福山 郭太良

文章页码：7014 - 7018

关键词：石墨烯;阻变存储器件;图形化;有机/无机杂化;

摘    要：采用旋涂技术、光刻技术、蒸发镀膜技术制备以图形化石墨烯∶聚合物复合薄膜为活性层,具有氧化铟锡/石墨烯∶聚合物/铝交叉型夹层结构的阻变器件。采用光刻胶为有机基体,实现阻变层的可图形化;通过优化石墨烯浓度,获得具有优良性能的可擦写非易失性阻变存储器件,讨论其阻变机制。实验表明,当石墨烯浓度为0.01%(质量分数)时,器件具有最佳的阻变特性,其开关比达8.9×103,且表现出良好的数据维持能力。