氧化钨单晶纳米带和纳米线的气相合成
来源期刊：中国钨业2008年第1期
论文作者：黄伯云 高程 贺跃辉 王世良
关键词：氧化钨; 纳米带; 纳米线; 气相沉积;
摘 要：利用W纳米粉和Ni(NO3)2-6H2O的高温反应,可制备出长度超过20μm,宽度在200～2000nm,厚度在50nm以下的氧化钨纳米带和长度在20μm以上,直径在100nm以下的氧化钨纳米线.合成的纳米带和纳米线均排列成放射式花状结构.XRD,SEM,TEM和EDS等一系列分析表征结果表明,合成的氧化钨纳米带和纳米线是沿<010>方向生长的,具有完好单晶结构的W18O49相.化学反应热力学分析与计算结果表明,合成的氧化钨纳米带和纳米线是通过气相沉积的方式形成的.
黄伯云1，高程1，贺跃辉1，王世良1
(1.中南大学,粉末冶金国家重点实验室,湖南,长沙,410083;
2.中南大学,物理科学与技术学院,湖南,长沙,410083;
3.湘潭大学,低维材料及其应用技术教育部重点实验室,湖南,湘潭,411005)
摘要:利用W纳米粉和Ni(NO3)2-6H2O的高温反应,可制备出长度超过20μm,宽度在200～2000nm,厚度在50nm以下的氧化钨纳米带和长度在20μm以上,直径在100nm以下的氧化钨纳米线.合成的纳米带和纳米线均排列成放射式花状结构.XRD,SEM,TEM和EDS等一系列分析表征结果表明,合成的氧化钨纳米带和纳米线是沿<010>方向生长的,具有完好单晶结构的W18O49相.化学反应热力学分析与计算结果表明,合成的氧化钨纳米带和纳米线是通过气相沉积的方式形成的.
关键词:氧化钨; 纳米带; 纳米线; 气相沉积;
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