强束流Ta离子注入铝的研究
来源期刊：理化检验物理分册2001年第6期
论文作者：杨建华
关键词：背散射; X射线衍射; 离子注入; 铝;
摘 要：利用从金属蒸汽真空弧离子源引出的强束流Ta离子,进行了Ta离子注入铝的研究.研究结果表明,在离子注入剂量为5×1017cm-2,平均束流密度为40μA@cm-2,加速电压为42kV下,Ta离子注入能在铝表面形成相应的合金层.借助卢瑟福背散射(RBS)和X射线衍射(XRD)分析,我们发现表面合金层中形成了Al3Ta相,Ta在铝中能产生10%以上的原子百分浓度,其深度高达200nm.
杨建华1
(1.南通工学院,)
摘要:利用从金属蒸汽真空弧离子源引出的强束流Ta离子,进行了Ta离子注入铝的研究.研究结果表明,在离子注入剂量为5×1017cm-2,平均束流密度为40μA@cm-2,加速电压为42kV下,Ta离子注入能在铝表面形成相应的合金层.借助卢瑟福背散射(RBS)和X射线衍射(XRD)分析,我们发现表面合金层中形成了Al3Ta相,Ta在铝中能产生10%以上的原子百分浓度,其深度高达200nm.
关键词:背散射; X射线衍射; 离子注入; 铝;
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