衬底和氧分压对Cu掺杂ZnO薄膜的结构及光学特性的影响

来源期刊：功能材料2010年第10期

论文作者：陶亚明 马书懿 陈海霞 孟军霞 侯丽莉 贾迎飞 尚小荣

文章页码：1716 - 1719

关键词：ZnO∶Cu薄膜;磁控溅射;衬底;氧分压;光学特性;

摘    要：采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅(100)衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO(ZnO∶Cu)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致荧光发光(PL)等表征技术,研究了衬底和氧分压对ZnO∶Cu薄膜的结晶性能和光学特性的影响。结果显示薄膜沉积在Si衬底上比玻璃衬底上有更好c轴择优取向,两种衬底上沉积的薄膜有相同的氧分压结晶规律,且在氧氩比为10∶10时,薄膜c轴取向同时达到最好。通过对光致发光的研究表明,在低氧环境时玻璃衬底较容易制得好的发光薄膜,可在富氧环境时Si衬底上制得的薄膜发光性能较好。