磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜
来源期刊:功能材料2008年第10期
论文作者:杨海刚 丁破 王怀义 郝维昌 刁训刚 王武育 王天民
关键词:磁控溅射; 纳米微晶; NiOx薄膜;
摘 要:利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.
杨海刚1,丁破1,王怀义1,郝维昌1,刁训刚1,王武育3,王天民1
(1.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;
2.北京印刷学院,基础部,北京102500;
3.北京有色金属研究总院,北京,100088)
摘要:利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.
关键词:磁控溅射; 纳米微晶; NiOx薄膜;
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