AgOx掩膜的制备和性能研究
来源期刊：功能材料2003年第2期
论文作者：沈德芳 张约品 干福熹 阮昊
关键词：AgOx; 反应溅射; 掩膜;
摘 要：磁控反应溅射制备了AgOx掩膜,用聚焦激光热效应装置测得的光透过特性,分析了AgOx掩膜的开关性能.结果表明,AgOx掩膜在较低的温度作用下有良好的开关性能,反应AgOx Ag+O2可逆,适用于LSC-super-RENS光盘.用X-ray和TEM分析了热处理后的AgOx薄膜的成分结构,表明200℃热处理AgOx掩膜存在纳米量级Ag颗粒.
沈德芳1，张约品2，干福熹1，阮昊1
(1.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;
2.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,20180;
3.宁波大学,光电子功能材料研究所,浙江,宁波,315211)
摘要:磁控反应溅射制备了AgOx掩膜,用聚焦激光热效应装置测得的光透过特性,分析了AgOx掩膜的开关性能.结果表明,AgOx掩膜在较低的温度作用下有良好的开关性能,反应AgOx Ag+O2可逆,适用于LSC-super-RENS光盘.用X-ray和TEM分析了热处理后的AgOx薄膜的成分结构,表明200℃热处理AgOx掩膜存在纳米量级Ag颗粒.
关键词:AgOx; 反应溅射; 掩膜;
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