氧分压对Zno薄膜结构、光学和电学特性的影响
来源期刊：稀有金属2007年增刊第1期
论文作者：张锦川 于威 滕晓云 张丽 许贺菊 傅广生
关键词：ZnO薄膜; 螺旋波等离子体; 氧分压;
摘 要：采用螺旋波等离子体辅助射频溅射技术在Al203衬底的(0001)面上制备了ZnO薄膜.通过对其结构,光学及电学性质的分析,探讨了氧分压对薄膜生长及其特性的影响.结果表明,由于等离子体对反应气体的活化及载能粒子对表面反应的辅助作用,采用该等离子体辅助溅射技术能够在合适的氧分压下制得较高质量的ZnO薄膜.
张锦川1，于威1，滕晓云1，张丽1，许贺菊1，傅广生1
(1.河北大学物理科学与技术学院,河北,保定071002)
摘要:采用螺旋波等离子体辅助射频溅射技术在Al203衬底的(0001)面上制备了ZnO薄膜.通过对其结构,光学及电学性质的分析,探讨了氧分压对薄膜生长及其特性的影响.结果表明,由于等离子体对反应气体的活化及载能粒子对表面反应的辅助作用,采用该等离子体辅助溅射技术能够在合适的氧分压下制得较高质量的ZnO薄膜.
关键词:ZnO薄膜; 螺旋波等离子体; 氧分压;
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