三种不同沉积工艺制备CrAlN涂层的性能

来源期刊：材料热处理学报2019年第10期

论文作者：王新太 王进 金烨堂 顾宁 孙树峰

文章页码：110 - 116

关键词：CrAlN涂层;阴极多弧离子镀;沉积工艺;涂层性能;

摘    要：采用阴极多弧离子镀膜技术,制备了3种不同沉积工艺的CrAlN涂层。利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、工具显微镜、球痕仪、洛式硬度计、HV显微硬度计、电化学工作站等研究了涂层的显微形貌、力学性能和耐腐蚀性。结果表明:采用氩离子刻蚀工艺沉积Cr N打底层的CrAlN涂层表面质量改善明显,厚度均匀波动小,硬度高,膜基结合力强,摩擦系数小,排屑能力强,以及具有较高的耐腐蚀性。