蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究
来源期刊：材料工程2006年第2期
论文作者：苏勋家 宋文燕 崔虎 刘正堂
关键词：磁控反应溅射; 蓝宝石; 氮化硅薄膜; 性能;
摘 要：采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯N2气为反应气体,在蓝宝石和硅衬底上制备了氮化硅薄膜.并对Si3N4薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能等进行了研究.实验结果表明,沉积薄膜中Si和N的比接近3∶4,形成了Si3N4化合物,呈非晶态结构.制备的Si3N4薄膜的硬度明显高于蓝宝石衬底的硬度,且与蓝宝石衬底结合牢固,可提供良好的保护性能.
苏勋家1，宋文燕1，崔虎1，刘正堂2
(1.第二炮兵工程学院,西安,710025;
2.西北工业大学,材料学院,西安,710072)
摘要:采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯N2气为反应气体,在蓝宝石和硅衬底上制备了氮化硅薄膜.并对Si3N4薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能等进行了研究.实验结果表明,沉积薄膜中Si和N的比接近3∶4,形成了Si3N4化合物,呈非晶态结构.制备的Si3N4薄膜的硬度明显高于蓝宝石衬底的硬度,且与蓝宝石衬底结合牢固,可提供良好的保护性能.
关键词:磁控反应溅射; 蓝宝石; 氮化硅薄膜; 性能;
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