Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗谱研究
来源期刊：中国腐蚀与防护学报2013年第6期
论文作者：刘光明 杨晓东 林继月 田继红
文章页码：527 - 531
关键词：溶胶-凝胶法;Al2;O3;/有机硅/SiO2;杂化涂层;电化学阻抗谱;
摘 要：以正硅酸乙酯（TEOS）、甲基三乙氧基硅烷（MTES）、二苯基二甲氧基硅烷（DDS）和仲丁醇铝（ASB）为主要原料,采用溶胶-凝胶法得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化溶胶,经100℃下固化12 h后得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层。红外光谱研究表明,杂化涂层中形成了Al—O—Si键。采用电化学阻抗（EIS）研究杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为,根据阻抗谱特征建立了等效电路图,结合等效电路图和拟合结果分析了杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性。结果表明,其在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性。
刘光明，杨晓东，林继月，田继红
南昌航空大学材料科学与工程学院
摘 要：以正硅酸乙酯（TEOS）、甲基三乙氧基硅烷（MTES）、二苯基二甲氧基硅烷（DDS）和仲丁醇铝（ASB）为主要原料,采用溶胶-凝胶法得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化溶胶,经100℃下固化12 h后得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层。红外光谱研究表明,杂化涂层中形成了Al—O—Si键。采用电化学阻抗（EIS）研究杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为,根据阻抗谱特征建立了等效电路图,结合等效电路图和拟合结果分析了杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性。结果表明,其在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性。
关键词：溶胶-凝胶法;Al2;O3;/有机硅/SiO2;杂化涂层;电化学阻抗谱;
