简介概要

射频磁控溅射制备TiO2光催化薄膜的表征

来源期刊：稀有金属材料与工程2004年第7期

论文作者：张俊英潘峰郝维昌郑树凯王天民

关键词：TiO2薄膜; 流量比; 表面粗糙度; 光催化活性; TiO2 thin film; flow ratio; surface roughness; photocatalytic activity;

摘要：在不同的Ar和O2气流量比下,利用射频磁控溅射技术在载波片上制备了TiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),拉曼光谱和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.结果表明在Ar∶O2=20 sccm∶5 sccm下制备的薄膜具有较高的光催化活性.

详情信息展示

张俊英¹，潘峰¹，郝维昌¹，郑树凯¹，王天民¹

(1.北京航空航天大学,北京,100083)

摘要:在不同的Ar和O2气流量比下,利用射频磁控溅射技术在载波片上制备了TiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),拉曼光谱和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.结果表明在Ar∶O2=20 sccm∶5 sccm下制备的薄膜具有较高的光催化活性.

关键词:TiO2薄膜; 流量比; 表面粗糙度; 光催化活性; TiO2 thin film; flow ratio; surface roughness; photocatalytic activity;

【全文内容正在添加中】