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半导体工业用镍铂合金靶材的制备及结构研究

来源期刊:贵金属2015年第4期

论文作者:王一晴 闻明 郭俊梅 管伟明

文章页码:27 - 31

关键词:金属材料;NiPt合金靶材;均匀化退火;轧制;择优取向;磁控溅射;

摘    要:采用熔炼、均匀化退火处理及温轧技术制备出NiPt合金靶材。采用金相、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等手段对NiPt合金在制备过程中的结构变化进行了研究。同时也研究了靶材结构与靶材溅射后表面形貌之间的关联性。研究表明,均匀化处理对NiPt合金获得择优取向具有明显影响,合金经过铸造、均匀化、轧制等工艺,其硬度分别为292、218、439,可分别形成(200)织构、(311)织构、(200)+(220)织构。靶材微观结构与溅射后表面形貌均匀性具有关联性。

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半导体工业用镍铂合金靶材的制备及结构研究

王一晴,闻明,郭俊梅,管伟明

贵研铂业股份有限公司稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室昆明贵金属研究所云南省贵金属材料重点实验室

摘 要:采用熔炼、均匀化退火处理及温轧技术制备出NiPt合金靶材。采用金相、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等手段对NiPt合金在制备过程中的结构变化进行了研究。同时也研究了靶材结构与靶材溅射后表面形貌之间的关联性。研究表明,均匀化处理对NiPt合金获得择优取向具有明显影响,合金经过铸造、均匀化、轧制等工艺,其硬度分别为292、218、439,可分别形成(200)织构、(311)织构、(200)+(220)织构。靶材微观结构与溅射后表面形貌均匀性具有关联性。

关键词:金属材料;NiPt合金靶材;均匀化退火;轧制;择优取向;磁控溅射;

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