氧化铝薄膜对硫钝化InP材料光学稳定性的影响

田珊珊¹，魏志鹏¹，赵海峰²，高娴¹，方铉¹，唐吉龙¹，楚学影¹，方芳¹，李金华¹，王晓华¹，李梅¹，马晓辉¹

1. 长春理工大学理学院2. 长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室

摘 要：利用原子层沉积法(ALD)在硫钝化后的n型InP表面沉积Al2O3薄膜进行二次钝化处理。通过光致发光(PL)测试和原子力显微镜(AFM)测试对样品的光学性质及表面形貌进行表征。硫钝化能够有效降低样品的表面态密度及无辐射复合几率,因此样品PL发光强度得到了极大提高。而样品表面的Al2O3可防止钝化层被氧化,尽管相对于沉积Al2O3薄膜前样品的光致发光强度有所降低,但样品的稳定性得到了改善,因此可进一步提高样品的发光性能。

关键词：InP;光致发光;硫钝化;表面态密度;Al2;O3;薄膜;