脉冲激光沉积b轴取向BaTi2O5薄膜的研究
来源期刊：无机材料学报2008年第3期
论文作者：後藤孝 王传彬 张联盟 沈强 涂溶
关键词：BaTi2O5薄膜; b轴取向; 基片温度; 氧分压;
摘 要：采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条件为Tsub=700℃和Po2=12.5Pa.在该条件下,BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向,薄膜表面平整光滑,结晶良好,晶粒呈棒状交叉分布,结合紧密.
後藤孝1，王传彬2，张联盟2，沈强2，涂溶1
(1.日本东北大学金属材料研究所,仙台980-8577;
2.武汉理工大学,材料复合新技术国家重点实验室,武汉430070)
摘要:采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条件为Tsub=700℃和Po2=12.5Pa.在该条件下,BaTi2O5薄膜表现出明显的b轴取向,薄膜表面平整光滑,结晶良好,晶粒呈棒状交叉分布,结合紧密.
关键词:BaTi2O5薄膜; b轴取向; 基片温度; 氧分压;
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